MOVIA

主な利点

高品質のマーキング
スループットとアップタイムの向上
コンパクトサイズ

マーキングとコーディング

高速の文字マーキングパフォーマンス
高い処理能力を必要とするアプリケーションをコーディングする際に MOVIA を使用します。ショートステップ応答とチューニングデザインは、文字マーキングのようなショートベクトル処理に最適化されています。

均一な線間隔
双方向的な陰影付けにより均一な線間隔を得ることで、一方向的な陰影付けと比べ処理能力を50%まで向上することができます。正確な線間隔により、表面のレーザ出力光の濃度を確実に統一し、ロゴやグラフィックなどの形を均等に塗りつぶすことができます。

容易なシステム統合
MOVIAの小型システムデザインは、システム統合を容易にするためにシステムフットプリントを削減できます。その業界基準のインターフェースやインプットオプションは、簡単な代替オプションと柔軟なシステム統合を可能にします。

ScanMasterコントローラを使用した改善されたマーキング処理能力
ユーザーは、当社のScanMasterコントローラを通して有効化されたポリ可変遅延により、マーキング処理能力の改善を実現することができます。これにより、角、円弧、丸のある作業が大きな影響を受けます。典型的なCPSパフォーマンスは50%ほど高くなります。

CO2レーザーで、レーザーマーキングシステムを完成させる
Novantaは、ユーザ特有のニーズを満たすよう検証された、高パフォーマンスで 精密に調整された構成やサブシステムを提供します。MOVIA は、確実にマーキングとコーディングに最大限の柔軟性をもたせるように、複数の構成オプションのあるレーザーを豊富に提供するSynradの CO2レーザーとの互換性があります

商品名

MOVIA

特徴

ほとんどのレーザーと互換性があり、幅広い材料と製品を処理できます

波長オプション1

CO2: 9.2 - 10.6 µm
ファイバー: 1040 - 1090 nm
グリーン: 532 nm   工場に確認
UV: 353 - 357 nm   工場に確認

ミラー口径部

    10 mm

走査角

  ± 20° 

ステップ応答2
(µsec)

  <210

標準マーキング速度3
(m/s)

3

繰り返し精度
(µrad)

<3.5

コマンド分解能

16-bit

長時間ドリフト4

オフセット: <100 µrad
スケール: <150 ppm

熱ドリフト

オフセット: <20 µrad/°C
スケール: <20 ppm/°C

モジュラー、又はエンクローズ

エンクローズ

注:

他に注記がない限り、すべての角度は光学角度となります。

1. HeNeレーザーバンドに対応。  
2. ポジションの1%以内で確定。
3. 160mm Fシータレンズ搭載。  
4. 30分のウォームアップ後の24時間の稼働中(軸ごと)

 

Jessica

お客様と協力して可能性を広げイノベーションを推進し当社製品をお客様のアプリケーションにご採用して頂けることに喜びを感じています。

Jessica Zhang
Director of Engineering (China)